닝보 지싱 광학 기술 유한 회사
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4인치 포토마스크
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4인치 포토마스크

전문적인 고품질 4인치 포토마스크 제조업체로서 우리 공장에서 4인치 포토마스크를 구입해도 안심할 수 있습니다. 지적 재산권으로 이 기술에 대한 외국 기업의 독점을 깨뜨립니다. 교정 보드 개발에서 Zhixing은 국내외의 많은 유명 기업과 장기적인 협력을 유지해 왔습니다.

Zhixing은 4인치 포토마스크 생산에 대한 풍부한 경험을 보유하고 있으며 자체 가공 및 생산 공장을 보유하고 있으며 가격이 유리하며 고정밀도를 보장하면서 다양한 크기의 사용자 정의를 지원하여 고객의 모든 요구 사항을 충족합니다. 상담을 환영합니다. , 당신과 함께 일하기를 기대합니다.


4인치 포토마스크는 광학기기의 제조 및 생산공정에 주로 사용되는 광학산업에서 매우 중요한 장치이다. 마스크 버전의 적용 범위는 매우 넓어 전자, 반도체, 광학, 화학 등 다양한 분야를 포괄합니다. 4인치 포토마스크 기술을 사용하면 미크론 수준의 제조 정확도와 고품질 템플릿을 생산할 수 있어 광학 산업 발전에 중요한 지원을 제공합니다.


전자 분야에서 마스크 버전은 주로 트랜지스터, 집적 회로, LED 칩 등과 ​​같은 전자 제품의 다양한 마이크로 전자 부품을 생산하는 데 사용됩니다. 마스크 플레이트 기술을 통해 미크론 수준의 제조 정확도를 달성할 수 있어 전자 부품의 제조 공정이 더욱 정교하고 효율적으로 이루어지며 전자 산업의 생산 능력과 제품 품질이 크게 향상됩니다.


반도체 산업에서는 4인치 포토마스크도 빼놓을 수 없는 장비다. 반도체 칩은 현대 과학 기술의 기본 구성 요소 중 하나이며 마스크 플레이트는 반도체 칩 생산 과정에서 없어서는 안될 제조 도구입니다. 4인치 포토마스크는 반도체 칩의 "로컬" 처리 및 성장을 실현하여 반도체 칩 생산을 보다 효율적이고 정교하게 만들고, 반도체 산업의 제조 능력과 제품 품질을 향상시킬 수 있습니다.


광학 산업에서 마스크 버전은 주로 태양광 패널, 광학 보호 필름 등과 같은 고정밀 광학 장치를 제조하는 데 사용됩니다. 마스크 플레이트 기술은 광학 장치의 모양, 크기, 두께 및 기타 매개 변수를 미세하게 제어하고 고품질 광학 장치를 생산하며 광학 산업을 더욱 강력하게 성장시킬 수 있습니다.


마스크 플레이트 기술은 화학 분야에서도 널리 사용됩니다. 화학 생산에서 마스크 플레이트는 미크론 수준의 정밀 제조를 달성할 수 있으며 고품질 복합 재료, 화학 시약, 의약품 및 기타 제품의 생산은 화학 산업 발전에 중요한 공헌을 했습니다.


요약하면, 광학 산업에서 마스크 플레이트의 적용 범위는 매우 넓고 미크론 수준의 제조 정확도를 달성할 수 있어 광학 산업의 고품질 발전을 촉진합니다. 과학과 기술이 지속적으로 발전함에 따라 마스크 기술도 지속적으로 업데이트되고 개선되어 미래 광학 산업 발전을 위한 더 넓은 개발 공간을 제공합니다.


특징:

상품명 정확도(음) 재료 색상
포토마스크 ±1 유리/석영 투명한
포토마스크 ±0.5 유리/석영 투명한
포토마스크 ±0.15 유리/석영 투명한
포토마스크 ±0.3 유리/석영 투명한



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유리 포토마스크 리소그래피 제품의 물리적 디스플레이

제작 과정:

(1) 생성 장치에서 인식할 수 있는 마스크 레티클 레이아웃 파일(GDS 형식)을 그립니다.

2) 마스크리스 리소그래피 기계를 사용하여 레이아웃 파일을 판독하고 접착제로 빈 레티클에 비접촉 노광(노광 파장 405nm)을 수행한 다음 레티클에서 필요한 패턴 영역을 조명하여 이 영역에 포토레지스트를 만듭니다. (보통 양극 접착제)는 광화학 반응을 겪습니다.

3) 현상 및 고정 후, 노출된 부분의 포토레지스트가 녹아 떨어져 나가면서 밑에 있는 크롬층이 노출됩니다.

4) 습식 에칭에는 크롬 에칭액을 사용하고, 노출된 크롬층을 에칭하여 광투과 영역을 형성하며, 포토레지스트로 보호된 크롬층은 에칭되지 않아 불투명한 영역을 형성합니다. 이러한 방식으로 레티클에는 빛 투과도가 다른 평면 패턴 구조가 형성됩니다.

5) 필요한 경우 습식 또는 건식 방법을 사용하여 레티클의 포토레지스트 층을 제거하고 레티클을 청소합니다.

자격증




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